什么是半导体曝光设备？

什么是半导体曝光设备？

半导体曝光设备是半导体制造过程中在硅片上绘制电路图案的设备。强紫外光透过光掩模，该光掩模是电路图案的原型，电路图案被转移到涂有光刻胶的硅片上。近年来，还有一种使用称为EUV的波长为13纳米的激光来使精细电路图案微型化的装置。由于定位精度要求非常高，设备价格昂贵。