光刻
从 2D 形状转向 3D 形状
使用 5 轴平台控制
实现 3D 形状的无掩模光刻！
光刻广泛用于电子器件的生产，但通常在晶圆等平坦基材上进行。然而，随着器件不断变得更小、更精密，传统的平面光刻技术不足的情况越来越多，三维结构光刻技术的实现被寄予厚望。
通过控制5轴平台，该装置可以在各种三维形状上曝光任意图案，可用于针对下一代产品的研发。
产品特点
通过 5 轴平台（3 个线性轴、2 个旋转轴）配置，可以实现各种形状的精细图案化。
使用半导体激光器进行直接曝光，因此不需要金属掩模，有助于缩短研发时间和预算。
可以使用专用转换软件读取通过 2D 和 3D CAD 创建的数据。
对准辅助机可轻松定位 3D 结构样品
定制订单示例
圆柱形曝光台类型
配备工件定心机构，并配置旋转工作台，可对长工件容易产生的下垂等工件变形进行牵引和抑制。
曝光示例
R40mm曲面工件15μm线距
R15mm-球形工件-Logo标记-20μm剖面线曝光
Φ5mm圆柱形工件100μm螺旋曝光
球形作品-标志标记/麻叶图案曝光
主要规格
| 光源 | 375nm半导体激光器 |
| 最小线宽 | 15μm（目标5μm） |
| 使用的物镜 | ×2长工作物镜 （×10物镜也在开发中） |
| 舞台配置 | XY轴：直线300mm行程 Z轴：直线200mm行程 α轴：旋转360° β轴：旋转90° |
| 设备尺寸 | 宽1000×高1800×深900 |
| 自动对焦 | 曝光期间：使用红色激光的三角测量法 对准期间：使用相机图像的对比法 |
| 功能 | 位置/角度对准 观察机构 |