无掩模曝光系统 PALET 大载物台型号 DDB-701-DL4
关于本产品
■让光刻变得更容易
半导体曾被称为“工业之米”。支持半导体工艺的技术是“光刻”。随着时间的推移，需要光刻技术的领域不断扩大，现在它已成为微加工技术的代表，广泛应用于MEMS、物理性能研究和生物技术等领域。 另一方面，不仅是达到几纳米的半导体光刻设备，即使是曝光亚微米图案的现有设备也存在设备尺寸庞大、设备价格在数千万至数亿日元以及环境问题等问题。现实情况是，引进的门槛非常高，比如设备、配套设备、对用户熟练程度的要求等。对于对微细加工感兴趣但附近没有基础设施的研究人员和工程师来说，这个障碍足以让他们放弃开发主题。 “无掩模曝光系统PALET”具有可在任何地方安装的尺寸、打破无掩模曝光设备传统观念的价格、以及可在现场创建任何图案的简单操作性。从用户角度消除障碍的产品规格非常适合需要反复试验的研究和原型设计应用。 通过这个无掩模曝光系统PALET，我们希望使光刻技术变得更容易实现并帮助加速各种研究。■颠覆行业常识的低价设定
“无掩模曝光设备很方便，但要花费数千万日元，所以我们放弃引入它。”为了打破常识，我们大胆地缩小了功能，并实现了压倒性的性价比。此外，我们的无掩模曝光设备实现了前所未有的性价比，其中包括手动载物台型号。您可以通过减少初始投资来准备研究环境。 最大曝光面积25mm，最小曝光线宽3μm，您可以选择您的研究区域，我们的高自由度和低安装成本将有力协助您的研发。
