无掩模曝光设备PALET

让光刻变得更容易！

半导体曾被称为“工业之米”。支持半导体工艺的技术
是“光刻”。随着时间的推移，需要光刻技术的领域不断扩大，现在它已 成为微加工技术的代表
，广泛应用于MEMS、物理性能研究和生物技术等领域。 另一方面， 不仅是，即使是曝光亚微米图案的现有设备 尺寸也很大，设备价格也达到数千万至数亿日元，这是现实的障碍。对介绍的要求非常高，比如环境、配套设备、对使用者的技术水平要求很高。对于对微细加工感兴趣但附近没有基础设施的研究人员和工程师来说，这个障碍足以让他们放弃开发主题。 “无掩模光刻系统PALET”具有可在任何地方安装的尺寸、打破无掩模曝光设备传统观念的价格、以及可在现场创建任何图案的简单操作性。从用户角度消除障碍的产品规格非常适合需要反复试验的研究和原型设计应用。