无掩模曝光设备PALET产品特点

“无掩模曝光设备虽然方便，但要花费数千万日元，所以还是放弃吧。”为了

打破常识，我们大胆缩小了功能范围，取得了压倒性的性价比。此外，该系列还包括手动载物台模型，这对于无掩模曝光系统来说是不寻常的。
您可以通过减少初始投资来准备研究环境（*3）。

最大曝光面积为25mm（*4），最小曝光线宽为3μm，让您可以选择您的研究区域，高自由度和低安装成本将有力协助您的研发。

*3可以从手动舞台模型升级到电动舞台模型。

*4对于需要更大曝光范围的客户，我们提供“100大型舞台模型”。

“我们不能让学生或外人使用我们的重要设备！”

有时我们会看到校园设备因为这样的原因而使用频率较低。重要的装备如果变成了宝藏那就太浪费了。 PALET 是一种用户友好的设备，不需要硬件或软件方面的技术技能。
大多数人在几个小时的设备演示中学会了基本操作，而且我们听说它很容易使用。

请随意尝试光刻技术。

“实验室很小，没有地方放置曝光设备。”

为了回应这样的声音，我们以“桌面光刻”为关键词，彻底缩小了设备尺寸，实现了A3尺寸的安装面积（* 1）。当然，不需要额外的曝光设备，例如掩模对准器。此外，通过采用浮动结构，抑制振动，无需隔振台，并提供内置气源进行真空抽吸。压缩空气等在安装过程中容易成为障碍的公用设施已被拆除。您只需准备一张桌子和一个 100V 电源（*2）。

精细结构和微通道的厚膜曝光需要具有深焦深的物镜。 PALET专用2倍物镜实现了数百微米的厚膜曝光(*5)。 以前需要使用掩模对准器的厚膜抗蚀剂现在可以在没有掩模的情况下进行曝光。

*5取决于所使用的抗蚀剂。