曝光设备用于制造半导体和液晶显示器。它是一种利用光在基板上描绘电路和像素等图案的设备。
由于使用强光,且需要精确控制平台,许多产品体积庞大,价格高达数亿日元。曝光工艺在半导体和液晶显示器制造中至关重要,因为它决定了设计数据(CAD数据)的图案。各公司开发了各种曝光方法,并将其应用于各自的设备中。