步进机用于光刻工艺中使用掩模的曝光处理,特别是在半导体和液晶的制造中。
步进法包括步进重复法和扫描仪,步进重复法对晶圆进行逐步曝光,因为一次可以转移的面积较小,扫描仪以与曝光速度相对应的速度同步扫描掩模版和晶圆。投影放大倍率。后者有时被视为扫描仪,以区别于步进机。