曝光设备的使用
曝光设备主要用于半导体制造地点和平板显示器（FPDS）制造地点，包括液晶显示器。
在半导体制造过程的情况下，使用硅晶片作为底物形成氧化物膜，然后使用光致抗光（光敏感材料），并用曝光装置从曝光装置发出的强紫外光照射涂层表面。这允许通过蚀刻或其他方式去除不必要的部分。这种使用曝光装置的方法称为光刻。
在液晶显示器的制造过程中，通常使用玻璃基板，重复重复沉积薄膜（例如金属）的薄膜，并重复蚀刻。
一种底物可用于形成带有像素电极和开关元件（例如TFT元素）的彩色滤波器，另一种基材可用于形成带有三种原色（红色，绿色和蓝色）的彩色滤镜。通过将两个板粘贴在一起并在它们之间放置液晶材料，可以完成LCD显示屏的面板。
在选择曝光设备时，它非常昂贵，因此有必要在与设备制造商进行彻底咨询有关曝光，准确性和舞台精确度的光的类型后进行全面咨询。