曝光设备原则

 说明测量曝光装置的原理。暴露措施包括用于运输光源，挠度镜头，光掩膜，冷凝镜片，阶段，硅晶片等的机器人。

镜头和光掩膜的精度非常高，并且舞台的精度也很高。在操作过程中，曝光目标精确地固定在舞台上。在操作过程中，阶段随着每次曝光而移动，导致在整个暴露目标中对暴露目标描绘的大量模式。

从光源发出的短波长的光被偏转透镜定向，并被照射到光掩膜上，这是用于构造电路模式的原型。穿过光掩膜的光聚焦为冷凝器镜头，描绘了针对暴露主题的非常小的电路模式。

一旦曝光在整个主题中完成，它将由机器人或类似设备运输。一些产品旨在使液体接触，从而更准确地接触。