如何选择离子植入设备

 离子植入的参数有很多变化，例如所用的离子类型，要植入的离子和离子量以及要植入的晶圆的大小和类型。因此，很难仅使用一个离子植入器进行所有离子植入过程。

例如，当将离子（例如磷或硼）植入高浓度时，需要高电流和高能离子植入装置。此外，如果要植入离子的晶片是在高温下运行的动力装置晶片，例如SIC，则需要将晶片加热到高温的设备。

另一方面，离子植入器是昂贵的制造设备。选择一个离子植入器时，假定要植入的离子类型，植入的量和适用的晶圆大小。此外，仔细考虑设备价格和吞吐量之间的关系很重要。