使用Ashing设备

 Ashing设备用于在半导体制造过程中去除离子植入物，删除诸如固定的聚合物（例如抗抑制剂），并在制造CCD时卸下颜色过滤器。

有两种类型的肌肉方法：使用等离子体灰烬的Plasma Ashing和臭氧Ashing，它们通过与碳氢化合物反应，使用臭氧灰烬。主要方法是血浆，它通过使用氧作为等离子体来增加反应性，以增加肌肉效应。