曝光设备的应用

 

在半导体制造过程中，以硅晶片作为基板，在其上形成氧化膜或其他层后，涂上光刻胶（感光材料）。然后，曝光装置发出的强紫外线通过光掩模照射到涂层表面，从而可以通过蚀刻或其他方法去除不需要的区域。这种使用曝光工具的方法称为光刻。

 

在LCD制造过程中，通常使用玻璃基板，并重复进行金属和其他薄膜沉积、光刻和蚀刻等多个循环。

 

可以在一个基板上形成像素电极和开关元件（例如TFT元件），并且可以在另一基板上形成具有光的三原色（红、绿、蓝）的彩色滤光片。液晶面板是通过将两块基板粘合在一起并在其间放置液晶材料而完成的。

 

在选择曝光工具时，由于曝光工具价格昂贵，因此需要与设备制造商充分讨论曝光所用的光源类型、曝光精度、平台的精度等，然后再购买。