曝光设备原理

 阐述了曝光设备的测量原理。曝光系统由光源、偏转透镜、光掩模、聚焦透镜、工作台、传送硅片的机械手等组成。

镜头、光掩模等的设计精度极高，而且平台的运行精度也很高。操作时，待曝光的物体被精确地固定在载物台上。在操作中，每次曝光时，移动的平台都会将多个图案写入目标上。

从光源发射出的强烈的短波长光经过偏转透镜的偏转，照射到光掩模上，而光掩模就是制作电路图案的原型。穿过光掩模的光线经聚焦透镜聚焦，在待曝光的目标上描绘出极其微小的电路图案。

一旦整个物体的曝光完成，它就会被机器人或类似设备运送。在某些产品中，要曝光的物体浸没在液体中，从而可以实现更精确的曝光。